LIGHTINGОптическое стекло · прецизионная обработка
Свяжитесь с нами中文 / English / Русский⌕
Кейс: полупроводниковая отрасль
CASE STUDY · Стекло для полупроводников и микроэлектроники

Кейс: обработка для полупроводников

Для носителей, крышек, пластин и стекла с микроотверстиями в проектах полупроводников, MEMS и микроэлектроники комплексно планируются материал, прецизионная обработка и чистая поставка.

Обзор проекта

Полный маршрут от подтверждения материала до поставки готового изделия

Для стеклянных деталей в полупроводниковой сфере обычно важны тепловое расширение, однородность толщины, микроотверстия или массивы отверстий, состояние обеих сторон и чистота. Выбор материала должен соответствовать последующим процессам: литографии, соединению, нанесению покрытий, корпусированию или контролю.

Типичные детали
Стеклянные пластины, носители, крышки, массивы микроотверстий, окна корпусирования
Основные операции
Прецизионная резка, сверление, шлифовка и полировка, очистка, контроль
Ключевые точки контроля
CTE, TTV, положение отверстий, поверхность, частицы и прослеживаемость
Направления применения
MEMS, датчики, микроэлектроника и полупроводниковое оборудование
Обсудить похожий проект
ТЕХНИЧЕСКОЕ РУКОВОДСТВО

Сначала процесс, затем стекло

Стеклянные пластины одного размера имеют разные требования в качестве носителя, крышки для анодного соединения, подложки для литографии, межслойного элемента с микроотверстиями и окна оборудования. Название материала, температуру процесса, геометрическую спецификацию, поверхность и упаковку нужно подтверждать вместе.

Сценарии применения

Где это применяется

  • Стеклянные крышки для MEMS и датчиков, пластины для анодного соединения
  • Носители для полупроводниковых процессов, временные подложки и опоры тонких листов
  • Окна пластинного корпусирования, прокладки и прозрачные крышки
  • Стекло с микроотверстиями/массивами отверстий и подложки со сквозными отверстиями для последующей металлизации заказчиком
  • Смотровые окна, изоляционные пластины и оптические детали в полупроводниковом оборудовании
Логика выбора материала

Зачем нужно стекло

Стекло сочетает прозрачность, электроизоляцию, химическую стойкость и регулируемое тепловое расширение. Низкощелочное стекло снижает риск миграции щелочных металлов; боросиликатное стекло подходит для теплового согласования стекло—кремний и анодного соединения; плавленый кварц — для низкого CTE, высоких температур, высокой чистоты и специфических спектральных условий.

Выбор материала

Стандартные материалы и области применения

МатериалОбласти примененияКлючевые критерии выбора
PYREX® Micro-ElectroMEMS, анодная сварка и корпусирование пластинного уровняCTE 3,43 × 10⁻⁶/°C (0–300 °C)
BOROFLOAT® 33Универсальные пластины, сенсорика, микрофлюидика и окна оборудованияCTE 3,25 × 10⁻⁶ K⁻¹, термо- и химически стойкое
EAGLE XG® / стекло без щелочейTFT, тонкие плёнки, микроэлектроника и подложки с низким содержанием ионовОбратите внимание на содержание щелочей, точку деформации и исходную поверхность
Плавленый кварцВысокие температуры, высокая чистота, низкий CTE, УФ/лазеры и детали оборудованияПодтверждение гидроксильных групп, примесей и спектрального класса
Типичные параметры

Стандартные параметры запроса

ПунктТипичные примеры формулировокТехнические пояснения
Диаметр пластиныОбычно 100, 150, 200, 300 ммСовместимость с оборудованием, кассетой, патроном и топологией
ТолщинаОбычно 0,20–1,10 мм; носители могут быть толщеВлияет на жёсткость, тепловую массу и фокальную плоскость
TTVОбычно говорят от ≤10–25 мкм; для высокоточного соединения оценивается ≤1–5 мкмОпределяет зазор ламинирования, фокальную плоскость и локальные напряжения
Коробление / изгибОпределяется отдельно для оборудования и процессаУкажите метод измерения и зону исключения кромки
Шероховатость поверхностиДля соединяемой/тонкоплёночной стороны обычно требуется контроль на уровне nmЗначения должны указываться с диапазоном измерения
МикроотверстияДиаметр входного/выходного отверстия, конусность, шаг, позиционирование и краевое расстояниеСтенки отверстий и термическое влияние влияют на металлизацию и герметизацию
ЧистотаЧастицы, ионы, металлы и органические остаткиГарантируем только те классы, которые реально можем контролировать
Структура и функция

Какая форма обычно требуется

Возможны стандартные пластины, квадратные или прямоугольные носители, диски с Flat/Notch, пластины-крышки, массивы микроотверстий, корпусные пластины с окнами и полостями, тонкие Spacer и смотровые окна оборудования.

  • Обеспечивает стабильный носитель для литографии, плёнок, соединения и корпусирования
  • В качестве прозрачной крышки, электроизолирующего слоя и диэлектрической структуры
  • Несёт массивы микроотверстий и последующие межсоединения заказчика
  • Укажите совместимые с оборудованием размеры, кромку и базы позиционирования
Требования к характеристикам

Свойства, которые стоит уточнить в первую очередь

  • Тепловое расширение материала, точка деформации, содержание щелочей и диэлектрическое согласование
  • Низкий TTV, контролируемые Bow/Warp и стабильная толщина
  • Низкая шероховатость, мало частиц и остатков на функциональной стороне
  • Контролируемые положение, конусность, стенки и термическое влияние микроотверстий
  • Прослеживаемость партий материала и обработки, контроля и упаковки
Подготовка запроса

Укажите в чертеже или запросе

Назначение процесса, максимальная температура и атмосфера, кремний/плёнка/клей, размеры и толщина, TTV, Bow/Warp, поверхность и шероховатость, схема микроотверстий, Edge Exclusion, ограничения по частицам/ионам/металлам, метод контроля, количество, партия и упаковка. При поставке только стекла с микроотверстиями мы не заявляем это как полное решение TGV с металлизацией и проверкой надёжности.

Приведённые параметры служат для предварительного выбора материала и технологии и не являются единой гарантией для всех размеров, толщин и материалов. Итоговые спецификации, методы измерения и стандарты поставки — по согласованным сторонами чертежу, образцам и документам заказа.

01

Подтверждение последующих операций

Сначала изучите условия соединения, литографии, нанесения покрытий, корпусирования или сборки оборудования и задайте границы по материалу и чистоте.

Обработка для полупроводников и подготовка материалаКонтроль обработки для полупроводников
02

Планирование материала и геометрии

Материал и технологический маршрут выбираются по тепловому расширению, толщине, размерам, структуре отверстий и требованиям к поверхности.

03

Прецизионная обработка и защита в процессе

Выполняются резка, массивы отверстий, обработка кромки или обеих сторон с контролем частиц и царапин при перемещении.

04

Контроль и чистая поставка

Проверяются размеры, положение отверстий, кромка и поверхность, выполняются очистка, разделительная упаковка и поставка партии.

Начните выбор материала и требования к обработке с одного чертежа

Пришлите чертёж и ключевые пункты приёмки — мы оценим проект с учётом материала и технологического маршрута.